Publié le 16 mai 2024. Nikon dévoile une nouvelle génération de stations d’alignement pour la fabrication de semi-conducteurs, une technologie cruciale pour répondre aux défis croissants de la miniaturisation et de la complexité des puces.
- Le Litho Booster 1000, le dernier modèle développé par Nikon, promet une précision de superposition accrue lors de la fabrication des semi-conducteurs.
- Ce système est compatible avec les équipements de lithographie de Nikon et d’autres fabricants, offrant une flexibilité aux industriels.
- Son développement a été partiellement financé par l’Organisation japonaise de développement des nouvelles énergies et des technologies industrielles (NEDO).
Nikon Corporation a annoncé le développement du Litho Booster 1000, une station d’alignement de nouvelle génération conçue pour optimiser la précision de la superposition des couches lors de la fabrication des semi-conducteurs. Cette avancée technologique est essentielle pour répondre aux exigences croissantes de l’industrie, notamment avec l’essor des structures de dispositifs tridimensionnelles.
Le Litho Booster 1000 se distingue par sa capacité à effectuer des mesures denses sur chaque tranche de silicium et à transmettre des données de correction directement au système de lithographie avant l’exposition. Ce processus permet un contrôle plus précis et, par conséquent, un rendement de production amélioré. Nikon prévoit de commercialiser ce système au second semestre 2026.
La complexité croissante des semi-conducteurs, en particulier dans des domaines tels que les capteurs d’image CMOS, les dispositifs logiques, les mémoires flash NAND et, à terme, les DRAM, pose des défis majeurs en matière de superposition. Les déformations et les désalignements des tranches lors des étapes de traitement multicouches et de liaison entre tranches nécessitent des mesures plus précises et plus denses pour maintenir des tolérances de superposition strictes.
Nikon propose des solutions de station d’alignement depuis 2018, mais le Litho Booster 1000 représente une avancée significative en termes de capacités et de performances. Sa conception flexible lui permet de fonctionner avec les systèmes de lithographie de Nikon, mais également avec ceux d’autres fournisseurs. Le développement de ce système a bénéficié du soutien financier et des résultats de recherche d’un projet commandé par l’Organisation japonaise de développement des nouvelles énergies et des technologies industrielles (NEDO).
Grâce à une précision de mesure multipoint et absolue améliorée, le Litho Booster 1000 contribue à améliorer la qualité et le rendement des dispositifs, tout en maintenant un niveau de productivité élevé tout au long du processus de fabrication.